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                想知道四川光刻机的光刻◤原理吗?

                作者:admin 发布日期:2018-7-29 关注次数: 二维码 呼分享


                今天小编要跟大家一起分享的内容是四川光刻机的光刻原理,想知道吗?

                光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电↓路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工□艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在在你那里占了不少便宜生产中需要进行 20-30 次的光刻,耗时占到 IC 生产环节的 50%左右,占芯←片生产成本的 1/3。

                四川光刻机

                四川光刻机的工艺 這鑒寶能力流程是怎样的呢?光刻分为正性光刻和负性光【刻两种基本工艺,区别在于两者使用的光刻胶的类型不同。负性光刻使用的光刻胶在曝光后会因为交联而变得不可溶解,并会硬化,不会被溶剂洗劍尖之上掉,从而该部分硅片不会在后续流程中被腐蚀掉,负性光刻光刻胶↓上的图形与掩模版上图形相反。

                光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀,最后洗去〖剩余光刻胶, 就实现了半导体器件在硅片表面的构建过程。

                光刻的原理是在『硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是頭頂是紫外光、深紫外光、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光速度刻胶会发生反应。此后⌒ 用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶, 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

                现在你是不是更加了解四川光刻机了呢?


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