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                G-33型高精密双面光刻机

                简介—— 四川♀光刻机之G-33型:一、 设备的主要用朋友那是好得不得了途本设备主要适用于电力问道电子器件、机车电子器件、传感器件、石英晶体振荡▆器、混合电

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                四川光刻机


                四川光刻机之G-33型:

                一、 设备的主要用途

                本设备主要适用于电力电子器件、机车电子器件、传感器件、石英晶体振荡器、混合电器、双向可控№硅、对地放电二极管及功率半导体器件等基片正反两面需要进行对准(套刻)的曝光。

                二. 主要技术指标:

                (1)本机采用双面对↓准单面曝光方式。

                (2)基片X、Y、θ对准工作台,X、Y移动:±5mm,θ转角≤±5°。

                (3)基片与掩膜▲对准精度(包括与记忆图形的对准精度)≤0.001mm。

                (4)板架来回翻转慢慢地向着那边遁过去重复精度≤0.004mm。

                (5)采用蝇眼曝光头,曝光面积:≤Φ100mm,光的不均匀性:≤±3%,光强可调,350W直流汞灯。

                (6)适用于Φ4″、Φ3″、Φ2″基片,配有三』种不同的承片台和相对应的板架。

                (7)显微系统放大倍数:51~323倍(连续变倍)。

                三.设备甚至的主要特点:

                (1)采用计算机、软件对版上记忆的图形(光刻标记)对⌒ 基片进行曝光。

                (2)独特的翻板机构,使上版、下版、放片、取片▓非常方便。

                (3)版的记忆图形、片下平面需要对准图形在同一水平面上,排除下面二个卧式显微镜需要下移一︾个片厚而引起的误差。

                (4)本设备具备多重▽功能,它既是双面曝光机,又是普通曝光机,还可当一台检查双面对准精度把门给关上了的检查仪。

                成都鑫南光机械设备有限公◢司是一家专业从事四你也别忘了川真空泵,四川光刻机,四川氢气炉生产及销售批发工作的企业,咨询电话:13908187709,028-85730519,拥有先进的技术装备和独特∑的设计,具有丰富的专用设备装配调试技术和经验。

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