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                G-25D型高精密单面光刻机(LED)

                简介—— 一、 主要用途: 本设备是我公司专门针对各大专院校、企业←及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密『光刻机,它 主要用于中

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                一、 主要用途:

                本设备是我公司专门针对各大专院校、企业及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

                二、 主︽要性能指标

                1、曝光类型:单面;

                2、曝光面积:150×150mm

                3、曝光照度不均匀性:≤±3.5%

                4、曝光强度:≤30mw/cm2可调;

                5、紫外光束歸墟秘境既然提前開啟了角:≤3?;

                6、紫外光中心波长:365nm

                7、紫外光源寿〓命:≥2万小时;

                8、采用电子快门;

                9、曝光☆分辨率:2μm

                10、曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;

                11、对准范围:XY 调节 ±4mmQ向调节±3°;

                12、套刻精度:2μm

                13、分离量;050μm可调;

                14、曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接◣触曝光;

                15、找平方式:气浮找平;

                16、显微系统:双视场CCD系统,显微镜91X570X连续变倍(物镜1.6X10X连续变倍),双物镜距离可调范围50mm120mm,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;

                17、掩模版尺寸:152×152mm

                18、基片尺寸: 110×110mm;

                19、基片厚度:≤5 mm

                20、曝光定时:0999.9秒可调;

                21、电源:单相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW

                22、洁净空气压力:≥0.4MPa

                23、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

                24设备所需能源⌒:

                主机电源: 220V±10%   50HZ,1KW。

                洁净空气≥0.4MPα。

                真空:-0.07~-0.08MPα。

                25.G-25D型高精密光知道龍族刻机的组成:

                LED紫外〒曝光头、CCD显微显示系统、对准№工作台、电三九雷劫气控制系统构成。


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